預計未來全球對半導體的需求將不斷增加，例如汽車半導體和人工智能市場等。

Unipulse提供多種感測器產品，可在半導體製造、檢驗、服務等各種工藝中使用。

本期我們將介紹靜電容量方式的非接觸位移計“PS-IA”。

PS-IA是Unipulse採用獨有的靜電容技術所製造的一種超精密非接觸式位移計，實現了高穩定性、高分辨率和通用性。

它以亞納米分辨率測量金屬（導體）與測量探頭之間的距離。

● 硅晶片厚度測量

   通過定製特殊形狀的探頭，使其便於嵌入設備中。

● 硅晶片平面度測量

   靜電容量方式是平面度測量中最常用的方法。

● 硅晶片邊緣檢測

   通過測量探頭對平行於硅片表面的固定間隙進行掃描，檢測硅片的邊緣位置。

● 絕緣體厚度測量

   用於測量探頭與GND之間空隙中的絕緣體厚度。

   還可以與定位裝置相結合使用，用於測量絕緣薄膜厚度分佈，以及掌握成膜裝置的清潔時機等。 It's also useful for monitoring the thickness of unnecessary insulating film inside coating chambers, such as PVD or CVD equipment.

● 絕緣體介電常數測量

   在已知厚度的情況下，也可用於測量絕緣塗層的介電常數。

● 用於超精密定位平台的反饋感測器

   適用於需要納米級分辨率、高精度和高穩定性的定位。

● 電機定子的間隙測量

   靜電容量方式不受電磁感應影響，因此可在高磁場中測量間隙、位置和振動等。

● 氣泡測量

   利用液體和氣泡的介電常數差，可測量液體中的氣泡率。

[測量圖像]

1. 可確保導體檢測
PS-IA採用的靜電電容方式不易受到測量面表面粗糙度的影響，因此即使是有圖案的表面也能進行測量，而光學位移傳感器則很難做到這一點。
該系統還可以檢測硅晶片。也可用於硅片邊緣的檢測。

2. 適用於真空環境（*需特殊定製）

在成膜、蝕刻等各種工藝中使用的真空裝置。PS-IA的探頭具有低揮發性，也可以根據真空環境需求進行定製。PS-IA可以根據需要進行特殊定製以適應高溫環境。

3. 適用於高溫環境（*需特殊定製）

在硅晶圓表面氧化工藝或薄膜成膜（CVD）過程中，製造設備內部通常處於高溫狀態。

4. 探頭形狀可定製 （*需特殊定製）

PS-IA 感測器探頭可以根據實際需求進行定製。也可以製作易於嵌入半導體設備的超薄型感測器探頭。雙面探頭可以對微小間隙進行定量測量和管理，也可用於平板電極間的間隙測量和管理。

定製探頭示例：

5. 高穩定性、低噪音的穩定位置檢測
具有±0.05%以下的高線性度，以及0.002%FS（rms）以下的低噪音，可實現穩定的位置檢測。

6. 日本製造，品質可靠

PS-IA 由日本製造，品質穩定。